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重新设计界面Designer创建粒子效果器比以往任何时候都更容易，在新改良的Designer中。为发射器，粒子，物理和辅助粒子，添加具有预设行为和样式的可调节版块。或单击添加完整的，可定制的粒子效果。Designer立即提供视觉反馈，使新建粒子和预览效果具有直观和创造性的体验。特别是Particular 4，新的Designer可以匹配AE合成大小，引入合成和摄像机信息。通过使用摄像机和发射器位置，可以控制预览您的粒子布局。

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另外，新的资产转移服务允许AWS呈现节点查看您的本地网络文件系统，就好像它在云中一样。这些文件本身并不需要存在于云中，以便渲染过程开始，而是随着渲染过程的需要同步到云中。在某些情况下，预热操作将在开始渲染过程之前同步这些作业所需的资源。在这两种情况下，资产文件都缓存在云中，以便可以在不重新同步的情况下再次使用它们。

增加了 RVL NOGUI LIC和 RVL QUIT LIC 的渲染支持